１）洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？
２）洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学
３）半導体の洗浄に特有のこと
４）半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会
５）半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
５－１）表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
５－１－１）表面現象とプロセス（付着状態と除去法）
５－１－２）薬液（ＲＣＡ，ＳＰＭ，ＨＦ，ＢＨＦ，ＨＦ＋Ｈ２Ｏ２，ＨＦ＋ＨＣｌ，Ｏ３，ＨＣｌ＋Ｏ３、機能水）
５－１－３）新提案の洗浄方法紹介
５－１－４）薬液設計の考え方（ＦＥＯＬ，ＢＥＯＬ，ＣＭＰ後）
５－１－５）物理的手段（超音波、二流体ジェット、ロールブラシ、ペンシルブラシ）
５－１－６）酸性・アルカリ洗浄液の特徴
５－１－７）残留物質と膜の間に生じる反応
５－１－８）洗浄後の表面保護（酸化膜、水素終端）
５－１－９）渇き残り(ウォーターマーク)
５－１－１０）乾燥方法（ＩＰＡ蒸気、マランゴニ、ロタゴニ、新提案の方法）
５－１－１１）パターン倒れを減らす方法
５－１－１２）洗浄工程・装置の例（ＲＣＡ，ＵＣＴ，ＩＭＥＣ）
５－１－１３）ドライ洗浄
５－１－１４）超臨界流体洗浄
５－２）流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
５－３）装置内流れの種類(完全混合、押出流れ、境界層)
５－４）流れの可視化観察（「流れ」と「拡散」の感覚を動画で）
６）洗浄機内の流れと反応
６－１）枚葉式洗浄機
６－１－１）水の流れ（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
６－１－２）化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
６－２）バッチ式洗浄機
６－２－１）水の流れ(観察動画と計算例)
６－２－２）水流を最適化（入口と出口の工夫例、９０度に噴出させる簡便法、粒子排出速度向上）
６－２－３）ウエハ挿入と取出しにおける汚れの動き
６－３）超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
６－３－１）超音波とは、効果と役割、照射方式
６－３－２）出力と水の動き、気泡の大きさと動き
６－３－３）超音波の効果：加速・流れ・気泡、周波数選択
６－３－４）超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
７）洗浄の評価方法
７－１）実験・計算を用いたＰＤＣＡサイクル
７－２）試料の例と表面観察方法
８）狭い空間の洗浄
８－１）液の侵入と濡れ、親水性・疎水性の選択
８－２）狭い空間における反応の速度
８－３）微細パターンの総表面積（実際に洗っている面積≫ウエハ面積）
９）まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊そう！）
１０）困らないために（地球環境の視点）
質疑・応答
講師紹介
略歴
新潟大学理学部化学科 理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻 理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科 博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社 1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科 助教授 2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院 教授 2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院 名誉教授 2022年４月
反応装置工学ラボ 代表 2022年4月～
論文
1) “Water Flow Improvement by Pinhole Outlet in Batch-Type Wet Cleaning Bath for Large-Diameter Wafers”, T. Tsuchida, T. Takahashi, H. Habuka and A. Goto, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 11, 074001 (7 pages) (2022).
2) “Side Wall Water Outlet Design for Silicon Wafer Wet Cleaning Bath”, M. Matsuo, T. Takahashi, H. Habuka and A. Goto, Materials Science in Semiconductor Processing, 110, 104970 (5pages) (2020).
3) “Water Outlet Design of Wet Cleaning Bath for 300 mm-Diameter Silicon Wafers”, M. Matsuo, K. Miyazaki, H. Habuka and A. Goto, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 7 (9) N123-N127 (2018).
ほか158報
所属学会・協会および役職
化学工学会シニア会員
化学工学会エレクトロニクス部会長
応用物理学会会員
日本結晶成長学会会員
エレクトロニクス実装学会会員
空気清浄協会会員
よこはま高度実装技術コンソーシアム理事長
米国電気化学会名誉会員
米国化学会会員
研究分野
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析
