ドライコーティングのメリット,真空装置必要性,膜ができるしくみ,原子・分子の作り方,
プロセスのモニター方法,スパッタプロセス,フィルムR-R特有の挙動と対策,
トラブル対策を含め実務上の重要ポイントを網羅的・具体的に解説する特別セミナー！！
- 講師
プロマティック株式会社 代表取締役 , 博士（工学）
立命館大学 客員教授 福島 和宏 先生
- 日時
- 会場
- 受講料
- （消費税等込み）1名：48,600円 同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合 1名：43,200円
- テキスト
受講概要
受講対象 特に制限なし 予備知識 特になし 習得知識 1) 蒸着、スパッタ、ＣＶＤ等のドライコーティングの最も基本的かつ本質的な原理 2) 真空Ｒ－Ｒ特有フィルム基材の挙動と対策 講師の言葉 スパッタリングは古くから知られている技術で、産業上の利用価値も非常に高い。 また、成膜材料種類やプロセスの改良に伴い、設備の改良も進んできている。 しかし、その基本的なメカニズムは変わっておらず、本質を理解しておくことは 今後の技術開発に有益である。 一方、フィルム基材を用いたＲ－Ｒプロセスではフィルム特有の挙動にプロセスが 支配され、所望の結果を得られないケースが多々ある。 本セミナーでは、スパッタの本質と共にフィルムＲ－Ｒ特有の現象を理解することで、 問題解決や新規開発の糸口を提供したい。
プログラム
１．ドライコーティングのメリット？
１-１．選べる膜材料
１-２．薄くて高機能
１-３．膜質の調整
１-４．凹凸、曲面への対応
２．なぜ真空装置が必要なのか？
２-１．大気圧と真空
２-２．真空の中身
２-３．「きれい」の基準
２-４．真空ポンプの種類と特徴
３．膜ができるしくみ
３-１．なぜくっつくのか？
３-２．膜になるまでの過程
３-３．結晶、多結晶、アモルファス
４．原子、分子の作り方
４-１．蒸着
４-２．スパッタリング
４-３．ＣＶＤ
４-４．その他
５．膜質の調整方法
５-１．原子の運動エネルギー
５-２．原子の反応エネルギー
５-３．プラズマの生成方法と役割
６．プロセスのモニタの方法と意義
６-１．真空度
６-２．真空の組成
６-３．膜厚
６-４．最も簡易なプラズマモニタ
７．膜の評価と設計
７-１．密着力評価の本質
７-２．硬さとしなやかさ
７-３．結晶と粒界
８．スパッタプロセスの定性的説明
８-１．選ばれる理由
８-２．低温成膜
８-３．反応性
９．スパッタプロセスの定量的説明
９-１．スパッタ粒子密度の把握
９-２．アウトガスの影響
９-３．反跳アルゴンによるダメージ
９．４．合金および化合物のスパッタ
１０. roll to rollドライコーティングの課題
１０-１．コスト
１０-２．roll基材のアウトガス
１０-３．基材の熱負け
１０-４．静電気
１０-５．rollの内部応力
講師紹介
平成２年～１８年まで、素材メーカーでフィルムの製造及び加工技術に関する研究・開発に従事。
特に、フィルムの表面処理およびroll to roll方式の蒸着ならびにスパッタによる要素技術開発を担当。
平成１８年より、プロマティック(株)を設立し、プラズマ・薄膜・静電気等に関する受託研究及びコンサルティングを行っている。
所属学会など
・応用物理学会会員（薄膜・表面分科会、有機分子・バイオエレクトロニクス分科会、プラズマエレクトロニクス分科会）
・表面科学会会員
・関西コンバーティングものづくり研究会副会長