半導体デバイスの物理的な洗浄,工学的な基礎知識として,半導体の原理・流体力学・電気磁気学・AIについて分かりやすく解説する特別セミナー！！
- 講師
愛知工業大学工学部電気学科 教授 博士（工学） 清家 善之 先生 la quaLab合同会社 代表社員
- 日時
- 会場
- ※本セミナーはWEB受講のみとなります。
- 受講料
- （消費税等込み）1名：38,500円 同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合 1名：33,000円
- テキスト
受講概要
受講形式 WEB受講のみ ※本セミナーは、Zoomシステムを利用したオンライン配信となります。 受講対象 半導体デバイス、装置メーカ、材料メーカー、マーケット関連 予備知識 特にはありません。 習得知識 1)半導体デバイスの物理的な洗浄 2)工学的な基礎知識（半導体の原理、流体力学、電気磁気学、AI）など 講師の言葉 今や半導体は我々の生活の上でなくてはならないものである。最近では半導体そのものが戦略物資となるほどに重要である。（昨今の台湾領土問題についても、半導体技術の奪い合いとも言われている。）このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎（半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI）も説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。 また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。 基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。
プログラム
１．半導体デバイスのマーケットの動向 ２．半導体デバイスの物理的洗浄の必要性 2-1 半導体の基礎の基礎 2-2 半導体製造プロセス 2-3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性 2-4 化学的洗浄と物理的洗浄 3．水流を利用した洗浄について 3-1 流体力学の基礎 3-2 高圧スプレー洗浄 3-3 二流体スプレー洗浄 3-4 超音波洗浄スプレー洗浄 3-5 ブラシ洗浄 3-6 次世代の物理的洗浄技術 4．スプレー洗浄時の静電気障害 4-1 静電気の基礎 4-2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害 4-3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム 5．AIを用いた半導体デバイスの生産技術 5-1 AIの基礎 5-2 半導体製造に用いられるAI 5-3 静電気障害防止を例にしたAIの活用法 質疑・応答 講師紹介 略歴 1990年 旭サナック株式会社入社 静電塗装機用高電圧発生回路の開発 半導体デバイス・FPD洗浄装置製造販売 電子デバイス用製膜装置の製造販売 技術統括・品質保証 2004年 米国アリゾナ大学客員研究員 半導体デバイスの精密加工プロセス（CMP）の研究 2007年 埼玉大学（学位取得） 2016年 愛知工業大学 工学部電気学科 教授 2022年 la quaLab合同会社 代表社員 （兼務）