入門と実践：レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策
　※受講者が抱えているトラブルやノウハウの相談に個別に対応

１．レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
　1-1　リソグラフィプロセスの基礎
（プロセスフロー、レジスト材料、ポジ型、ネガ型レジスト、光化学反応メカニズム、
　パターン現像、露光システム、レイリ―の式、解像力、焦点深度、重ね合わせ技術）
　1-2　レジストコントラストで制御する
（光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、現像コントラスト、パターン断面形状改善）
　1-3　エッチングマスクとしてのレジストパターン
（プラズマとは、等方性と異方性エッチング、RIE、エッチング残差、ローディング効果、選択比、ウェットエッチング、レジスト浸透性）
　1-4　レジストコーティング方式の最適化
（粘度、スピンコート、塗布むら対策、スキャンコート、スプレーコート、減圧ベーク、乾燥むら、インクジェットコート）
　1-5 高解像・機能性リソグラフィ技術
（EUV, 位相シフトマスク、多層レジストプロセス、液浸リソグラフィ、ナノバブル、
　厚膜レジスト、光造形、感性制御パターン、ナノインプリント、ソルダーレジスト,
　積層レジスト、ダブル／マルチパターニング）


２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策（最短でのトラブル解決のために）
　2-1　レジスト付着性の促進および低下要因とは
（表面エネルギー、凝集力、応力緩和、応力集中、溶液浸透、検査用パターン）
　2-2　乾燥プロセスでのパターン剥離を検証する
（毛細管現象、パターン間メニスカス、Lucas-Washburnの式、エアートンネル）
　2-3　表面エネルギーからレジスト付着性が予測できる
（濡れ性、Youngの式、表面エネルギー、分散と極性、Young-Dupreの式、付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル、付着性と密着性の差）
　2-4　ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる
（軟化点効果、極性成分γｐ効果、最適条件の設定方法）
　2-5　過剰なHMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
（最適な処理温度と処理時間、装置設計）
　2-6　パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい
（アンダーカット形状、応力解析、応力集中効果、熱応力、表面硬化層の影響）
　2-7　レジスト膜の応力をin-situ測定する
（減圧処理、応力緩和と発生、溶剤乾燥、拡散モデル）
　2-8　レジスト膜の膨潤を計測する
（アルカリ液の浸透、クラウジウス・モソティの式、屈折率評価、導電性解析）
　2-9 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策
（乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、ピンホール、膜はがれ）

３．レジスト材料プロセスの高品位化（高付加価値のレジストを目指す）
　3-1　微小パターンの物性
（表面サイズ効果、高分子集合体、粒子凝集モデル、ナノウェット効果）
　3-2　レジストパターン1個の付着力を実測する
（DPAT法、計測感度、ナノサイズの付着力の実験式）
　3-3　レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する
（AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価）
　3-4　レジスト平坦性（平坦化の要因、計測評価法）
　3-5　レジスト膜の超薄膜化（シングルナノ膜厚の形成）
　3-6　レジスト除去技術（ドライ、ウェット、残渣除去）

４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

講師紹介

　三菱電機（株）ＵＬＳＩ研究所での勤務を経て、現職にてコーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発に従事。
　各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。原著論文150報以上、国際学会100件、
　特許出願多数。　大学ベンチャー企業　アドヒージョン（株）代表取締役　兼務